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散射型超声波喷头介绍

散射型超声波喷头典型的应用是半导体晶圆的光刻胶喷涂，将光刻胶喷涂在半导体晶圆上。由于散射型超声波喷头喷出的雾是旋转散射的，故此不仅可以均匀的在晶圆的平面上形成光刻胶薄膜，而且还可以在晶圆微型结构的侧壁及夹角处形成均匀包裹的光刻胶薄膜。除此之外，散射型超声波喷头还可应用于如薄膜太阳能电池喷涂、钙钛矿太阳能电池喷涂、ar增透减反射膜喷涂、隔热薄膜喷涂、超疏水涂层喷涂、pcb助焊剂喷涂等等。    散射型超声波喷头的特点喷涂宽度：40-150mm涂层均匀：均匀度>;95%节省原料：原料利用率---85%以上，4倍于传统二流体喷涂

涂层厚度控制精度高：可制备20纳米到数十微米的涂层，控制涂层厚度

微细雾化颗粒雾化颗粒均匀可实现间断性或连续性的喷涂---喷雾流量不易堵塞喷头防腐蚀型喷头可实现---、高可控性的喷涂。